[SK하이닉스] 면접 방식 & Tip

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SK하이닉스 면접이 얼마 남지 않은 시점에서, 많은 준비를 하고 있을 거라 생각됩니다. 

우선 하이닉스 면접이 처음인 경우, 어떤식으로 나오는지, 어떤 문제가 출제 되는지 등에 대한 정보가 필요하다보니

이에 대해 알려드리고자 합니다.

 

1. SK 하이닉스 면접 방식

2. SK 하이닉스 출제 경향

 

위 두가지에 대해 집중적으로 알려드리고자 합니다.

 

1. SK 하이닉스 면접 방식 

 

최근에 코로나로 인해 SKCT는 오프라인으로 진행하였지만, 면접은 비대면 방식으로 진행한다고 합니다.

이에 따라 면접방식에 차이가 있을지에 대해 궁금하신 분들이 있습니다.

SK하이닉스에서 보냈던 메일을 보고 유추해보면, 기존의 방식과는 큰 차이가 없지만,

특정 장소에서 화상으로 면접을 진행 한다는 것이 다른 부분으로 보입니다.

 

SK하이닉스는 삼성전자와 달리, 인성+직무(PT)면접을 함께 진행하며 약 30분 가량 진행됩니다.

 

기존 SK하이닉스의 면접 방식에 대해 알아보겠습니다. 

 

1) 면접대상자의 직무/학과별로 문제를 제공

마지막 면접이 2019하반기였기에, 이를 바탕으로 작성하였습니다.

 

키워드 두 개가 있고, 이에 딸린 3가지 문제를 볼 수 있습니다. 

즉, 자신이 있는 키워드와 문제에 대해 선택할 수 있는 폭이 넓다는 것이 특징입니다.

 

여기에는 학과와 지원 직무에 따라 다소 문제가 차이가 있습니다.

반도체와 가까운 학과 일 수록 반도체 관련된 문제의 비중이 높습니다.

 

2) 별도의 대기실에서 문제 풀이

 

 문제를 풀이 후 감독관과 면접관에게 복사하여 제출하게 됩니다.

PT를 할 때, 활용이 되므로 답안지 구성을 하는 연습도 필요할 수 있습니다.

 

3) 발표 방식

 

 풀이과정을 판서를 하면서 발표를 하고 이후 Q&A 가 진행됩니다.

 이때, PT 관련된 부분도 진행되면서 인성면접도 함께 진행이 되기 때문에 짧은 시간에 핵심을 제대로

전달하는 연습이 필요 합니다.

 

 

2. SK 하이닉스 출제 경향

SK하이닉스나 삼성 같은 경우 크게 3가지로 문제가 출제되고 있습니다. 

​

1) 정의형

 정의를 묻는 문제로, 기본적인 소자 동작 원리나 기존 반도체 소자의 한계가 무엇이고 이에 따른 차세대 기술과 기술동향 등에 대해 물어보는 문제 입니다. 

​

- MOSFET 구조, 구동원리, 소자 제품들의 차이 등

 

2) 문제 해결형

 

 반도체 소자 및 공정의 기술적인 문제점(Issue) 등에 대해 질문을 하고 이에 대한 해결 방법에 대해 묻고 답하는 방식 입니다.

 

-DRAM의 한계점을 극복하기 위한 방법은 무엇인가?, Photo 공정에서 물을 사용하면 굴절률이 높아 지는데, 해당 방법에서 생기는 문제점은 무엇인가?와 같은 문제 입니다. 

 

 해당 문제를 풀기 위해서는 소자나 공정에 대한 지식이 필요하며, 학과에 따라 전공 내용에 대한 지식도 필요합니다.

 

3)  비교형

반도체 공정이나 주요 설비의 종류와 기술의 차이점에 대해 묻는 문제 입니다.

 

ex) Hard Polishing과 Soft Polishing개념등 공정을 비교하거나 제품을 비교하는 방식, CVD 종류와 차이점

​

4) 전공

학과 전공 기초에 대한 문제

​

-재료상태도 분석, 유전율, 열역학(Carnot-cycle 등), 유체역학(베르누이), 전파지연시간 등 학과 전공 문제

 

전공문제의 경우, 전공 지식 자체를 물어보는 경우도 있지만, 전공+반도체를 융합하여 물어보는 경우도 있습니다.

학과 및 직무마다 차이가 있지만, 어느정도 반도체를 공부하는 것이 필요합니다.

 

예를 들면, 반도체 웨이퍼를 넣었을 때, 모든 웨이퍼에 열이 균일하게 전달되도록 하기 위한 방법은 무엇인가? (간단하게 작성해 보았습니다)같은 문제가 나올 수 있습니다.

 

잘 아는 문제가 나오면 좋지만 그렇지 않을 가능성도 있기 때문에, 많은 준비를 하여 합격 할 수 있길 바랍니다.

 

​다음주 부터 시작되는 면접, 좋은 결과 있으시길 응원합니다!